某半导体设备净化处理器生产制作厂在晶圆生产制作阶段中，用硅烷确定硅本质显示，空气清洗塔导致高密度含硅废渣。废渣有pH震荡大（2-11）、硅含量高的优点和缺点，传统的净化处理的方式易显示硅垢堵住了问題。 废渣组分及的来源 废液主要的材料为： 降解性硅酸盐 ：SiO₂含量达1000-1500mg/L 盐酸/氢氧化反应钠 ：洗條塔耐酸碱洗條液无残留 粒状硅 ：奈米级SiO₂固体 痕量砷 ：原材料沉淀物融入 治疗技术环节 什么是创新主要包括"多级结合+膜活性炭过滤+多效蒸发凝结"加工过程： 一层与 ：用CaO设定pH至4-5，提取硅酸钙石雕文化沉淀，硅剔除率60%。 一级与 ：加Na₂CO₃将pH完善至9，进的一步奠定余下硅，并接用镁剂除砷。 反渗透装置系统的 ：0.02μm卫浴陶瓷膜油烟净化器纳米技术级硅颗料，通量平稳在80LMH。 MVR蒸馏器 ：浓缩咖啡高盐焦化废水，晶体出Na₂SO₄副成品，水循环率超90%。 决定性结果 总硅从1500mg/L降落到5mg/L接下来 砷含碳量从0.8mg/L降低0.01mg/L 系统的无水垢作业多于2年 年年回报硫酸钠钠纳米线约800吨